先取り反作用原理

●発明原理9 ‐ 先取り反作用

●有害な影響と有益な効果の両方を与える作用を行う必要がある場合には、有害な影響を抑制するための反作用を事前に行っておく

●予め物体中に応力を発生させておき、後に生じる好ましくない使用応力に対抗するようにしておく

例:　ナノメータ間隔の光学回折格子

問題:　従来の超微細パターン処理やエッチングを用いた方法では、基板表面にナノメータ間隔の回折格子を作ることができない

発明原理の適用:　アルミニウム・ヒ素（AlAs）またはガリウム・ヒ素（GaAs）でエピタキシャル構造を形成しておき、アルミニウム・ヒ素（AlAs）またはガリウム・ヒ素（GaAs）を選択エッチングすることによりナノメータ間隔の回折格子を形成します。

右図では、エピタキシャル処理とその後の選択エッチングを用いて基板表面にナノメータ間隔の回折格子を形成


出典： TRIZ Technology for Innovation ( http://www.trizsolution.com/ )